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超聲波清洗技術的最新發展

欄目:行業新聞 發布時間:2019-09-15

超聲波清洗技術的最新發展
1、高頻超聲清洗
對于象硅片表面小至零點幾微米的超微污物粒子,常規的超聲波清洗器無能為力,即使增加功率密度也無濟于事。近年來發展了一種兆赫茲級的高頻超聲清洗技術,由于頻率高,空化效應已不起作用,因此清洗的關鍵不是氣泡,是高頻壓力波的擦洗作用,其對污物的去除率接近百分之百。高頻清洗進來發展較快,主要用于超大規模集成電路芯片上的污物清洗,以及硅晶片、陶瓷、光掩模等特種污物的清洗。

2、聚焦式清洗
對于象紡織行業的噴絲板、過濾器之類微孔物件的清洗,常規的超聲波清洗機清洗效果十分不理想,聲強達不到要求,而采用機械掃描聚焦式超聲清洗,噴絲板微孔中的污物脫離十分明顯。聚焦式清洗要求達到高的聲強,目前選用的頻率以低頻為主,常用 20kHz和15kHz兩種頻率,個別的頻率也有28kHz的,其電功率在連續波情況下一般為500~700W,間隙脈沖工作狀態下,功率可高一些。